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                                            首頁 > 產品展示 > 氫氣發生器(英國普拉勒) > 英國氫氣發生器 > 半導體專用氫氣發生器
                                            產品展示 / Products

                                            產品名稱:半導體專用氫氣發生器

                                            瀏覽次數:7673

                                            更新時間:2024-02-01

                                            產品簡介:半導體專用氫氣發生器是由多個部件組成的設備,包括電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調節閥和開關電源等,設備采用英國Peculiar研發的離子膜技術。

                                            詳細資料:

                                            半導體專用氫氣發生器是由多個部件組成的設備,包括電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調節閥和開關電源等。當設備通電后,電解池的陰極產生氫氣,陽極產生氧氣。氫氣進入氫/水分離器,而氧氣則排入大氣中。

                                            氫/水分離器的作用是將氫氣和水分離開來。經過分離后的氫氣進入干燥器進行除濕處理,然后通過穩壓閥和調節閥調整到額定壓力(0.02~0.45Mpa可調),并由出口輸出。電解池的產氫壓力由傳感器控制,保持在大約0.45Mpa左右。當壓力達到設定值時,電解池的電源供應會被切斷;而當壓力下降并低于設定值時,電源會恢復供電。

                                            半導體專用氫氣發生器采用了SPE固態電解質技術,無需使用堿液。它直接電解純水,有效地保護色譜柱。該設備具有以下結構優勢:

                                            1.采用英國Peculiar研發的離子膜技術;

                                            2.使用分子篩耐用干燥劑,使氫氣純化更加高效,能夠產生純度為99.9999%的氫氣,確保結果的重現性;

                                            3.采用英國Peculiar硅橡膠圈(含硫量低),有效提高氣體質量,保證GC基線平穩;

                                            4.具備自動水位控制功能,當缺水狀態時會自動停機,并具備自動補水功能。Hydrogen-500(S)水量低于15%時,外置水箱會自動補水,無需停機加水。這樣可以有效保護電解池并延長使用壽命;

                                            5.壓力和流量均采用一體化微電腦控制。


                                             


                                             






                                             

                                             


                                             

                                            氫氣發生器在半導體行業中的應用:

                                             

                                            1.清洗和退火:在半導體制造過程中,清洗和退火是非常重要的步驟。氫氣可以用作清洗氣體,通過去除表面的污染物和氧化物,提供干凈的表面。同時,氫氣還可用于退火過程,促進晶體的再結晶和去除損傷。

                                             

                                            2.賦活處理:氫氣還可以用于賦活處理,即將水合氧化物轉化為電氧化物以提高雜質離子的濃度。這對于改善半導體器件的性能和穩定性非常重要。

                                             

                                            3.氫氟化物析出:在半導體器件制造過程中,需要使用氫氟酸進行刻蝕。而氫氟化物析出則是將氣相中的氫氟化物從濕法排放中回收,減少對環境的污染。

                                             

                                            4.硅取向和外延生長:氫氣可以用于調控硅晶片的取向和外延生長過程。通過控制氫氣的流量和溫度,可以使硅晶面優先生長在特定方向上,得到特定取向的硅材料。

                                             

                                            5.清除氧污染:在一些特殊的半導體工藝中,氫氣可以用來清除氧氣的污染,避免氧氣與半導體材料反應產生影響器件性能的氧化物。 

                                             

                                             


                                             如果你對半導體專用氫氣發生器感興趣,想了解更詳細的產品信息,請與我們聯系:

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